검찰 "새로운 포렌식 기법으로 설계도에 있던 '디지털 지문' 확인"
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19일 수원지검 방위사업 산업기술범죄수사부(박경택 부장검사)는 국내 최대 반도체 제조업체인 세메스가 30여 년에 걸쳐 개발한 국가핵심기술을 도용해 제작한 반도체 세정장비를 중국기업에 수출하려 한 중국계 회사의 운영자 A씨와 설계팀장 B씨를 직접 구속 기소하고, 위 회사 직원 등 9명 및 관련 법인 3곳을 불구속 기소했다고 밝혔다.
검찰 수사 결과 삼성전자 세정공정 엔지니어 출신인 A씨를 비롯해 B씨 등이 유출하려 한 기술은 국내 반도체 업계에 수조 원대 피해를 야기할 수도 있었던 핵심 반도체 세정기술로 이는 반도체 제조공정에서 발생하는 오염물을 제거해 불량률을 낮추는 기술이다.
검찰 관계자는 "거점업체는 국내 반도체 전문가들을 모아 기술자료를 수집, 이를 기반으로 국내에서 세정장비를 개발 및 제작해 수출하려 했다"며 "외국 본사가 국내 전문인력을 직접 고용하는 기존 방식에 비해 외국 생활을 꺼리는 국내 전문가들까지 영입할 수 있고, 반도체 제조 과정에서 경험이 풍부한 국내 반도체 관련 협력업체들을 활용할 수 있는 장점이 있기 때문"이라고 설명했다.
앞서 검찰은 지난해 1월 국정원 산업기밀보호센터의 정보로 수사에 착수했으며 같은해 4월에 기술유출 사건의 거점업체 등에 대한 압수수색에 나섰다 이후 B씨는 지난해 11월 28일 구속 기소됐다.
수사 과정에서 피고인들은 '기술을 빼돌린 것이 아니라 자체적으로 개발했다'고 주장했으나 검찰은 과거 기술유출 사건 수사에서 활용되지 않았던 새로운 포렌식 기법으로 설계도에 남아 있던 '디지털 지문'을 확인해 국내 반도체 업체의 기술이 도용된 사실을 확인한 것으로 나타났다.
검찰은 국정원 산하 산업기밀보호센터에서 수집한 정보를 바탕으로 수사에 착수해 국내에서 보관·제작 중이던 120억원 상당 세정장비 3대를 압수하고, 해당 업체의 국내 자산 100억원 상당을 추징보전하는 등 범죄수익을 환수했다.
